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潔凈技術(shù)是依據(jù)科學(xué)技術(shù)的發(fā)展以及為解決工業(yè)產(chǎn)品生產(chǎn)環(huán)境中的塵埃粒子對產(chǎn)品質(zhì)量造成的諸多影響而不斷發(fā)展起來的。當(dāng)今全球科學(xué)技術(shù)發(fā)展迅速，信息技術(shù)、生物技術(shù)的發(fā)展更是日新月異。無塵室、無塵車間信息技術(shù)產(chǎn)品的徽細化，超大規(guī)模集成電路(vLsI)更新?lián)Q代極快。

幾乎不到兩年就要跨一檔次，v賤I的特征尺寸已達到深亞微米級，v151的發(fā)展帶動了潔凈技術(shù)，人們在談到v15I的生產(chǎn)時，自然要詢問生產(chǎn)環(huán)境是多少無塵室、無塵車間潔凈度等級？控制的懸浮粒子的粒徑是多少？采取何種方式作為無塵室、無塵車間凈化空氣、純化技術(shù)的手段？生物技術(shù)的發(fā)展也同樣大大促進了無塵室、無塵車間潔凈技術(shù)的發(fā)展，特別是20世紀90年代以來，無塵室、無塵車間國際國內(nèi)隨著新的生物制品、醫(yī)藥產(chǎn)品的研制和生產(chǎn)技術(shù)的發(fā)展，大大促進了潔凈技術(shù)在控制微生物污染技術(shù)、防病毒污染和感染技術(shù)方而的發(fā)展并取得巨大的進步，無塵室、無塵車間基本適應(yīng)了生物技術(shù)發(fā)展的需要�？傊�，當(dāng)今科學(xué)技術(shù)的發(fā)展，許多高新技術(shù)產(chǎn)品的研究、生產(chǎn)和確保這些產(chǎn)品的高質(zhì)量、高成品率都與無塵室、無塵車間潔凈技術(shù)的發(fā)展密切相關(guān)c超大規(guī)模集成電路的產(chǎn)品更新、發(fā)展主要取決于集成度的提高，即特性尺寸的縮小，無塵室、無塵車間是國際半導(dǎo)體工業(yè)協(xié)會(51A)對未來集成電路發(fā)展趨勢的預(yù)測和對潔凈生產(chǎn)環(huán)境中塵粒的控制要求。無塵室、無塵車間是sIA對未來集成電路發(fā)展趨勢的預(yù)測和生產(chǎn)過程中所需普通氣體(Hz、 z，q、從)中允許雜質(zhì)如H20、02、co、cq、cH4等的含量和塵粒含量的要求。據(jù)了解線寬為o.09P”的超大規(guī)模集成電路芯片已經(jīng)研制生產(chǎn)出來，可見vLsl的研制生產(chǎn)比預(yù)測的還要快。

無塵室、無塵車間空氣中受控粒子尺寸以往通常視為可按集成電路特征尺寸的36一姑考慮，但隨著集成度的提高，特征尺寸的不斷縮小以及潔凈生產(chǎn)環(huán)境控制技術(shù)的提高等因素，有的資料介紹可按特征尺寸的媳左右考慮，在1現(xiàn)已逐步得到各國同行的認同。現(xiàn)將無塵室、無塵車間中的數(shù)據(jù)統(tǒng)一換算0．1四的粒子，單位面積圓片上＞0．1四粒子的最大允許值丘見表2—5。無塵室、無塵車間的數(shù)據(jù)可以看出，對于64G的超大規(guī)模集成電路成品率為80％時，10個4250的圓片上o.1Pm的空氣粒子只允許o．25個，即基本不允許多o lPm的空氣粒子存在。在得到單位面積芯片上空氣粒子最大允許值E(pc／m2)后能否計算空氣含塵濃度c(pc／m3)？無塵室、無塵車間內(nèi)空氣中粒子在硅片上沉降過程比較復(fù)雜，它與無塵室、無塵車間內(nèi)的氣流流型、氣流速度、硅片加工工藝及其設(shè)備配置等諸多因素有關(guān)，據(jù)有關(guān)資料介紹，若假設(shè)僅以芯片加工的生產(chǎn)狀態(tài)不同進行比較，在排除各種相同條件后，無塵室、無塵車間內(nèi)空氣中允許含塵濃度僅與芯片放置在空氣中的暴露時間、芯片單位面積上空氣粒子最大允許值有關(guān)，經(jīng)過計算后可以得出集成度為1M至64G的D只AM集成電路成品率達90％時，芯片加工區(qū)的事氣含傘濃涪和相府的無塵室、無塵車間。